摘 要：光刻胶产品主要适用于集成电路产业和平板显示器产业的光刻工艺，以得到精细线路。文章介绍了光刻胶产品工业化生产的工艺流程和质量管控。

　　关键词：光刻胶；生产工艺；质量管控

　　前言

　　所谓光刻胶（photoresist，国内又称为光致抗蚀剂），是一类利用光化学反应进行精细图形转移的化学品。

　　由于光刻胶使用在特殊光刻工艺上，属于精细化工材料，生产量并不太大。集成电路（IC）产业用的光刻胶一般以5升的容器为包装，而FPD产业用的光刻胶由于基板尺寸的大型化，所用光刻胶量较大，目前以20L或200L的容器为包装。全球生产FPD用光刻胶的主要厂家，为配合FPD工厂的实际使用，都集中在FPD工厂密集的日本、韩国、台湾地区、和中国，包括全球生产商AZ，日本的TOK（日本应化），ZEON（丸红），韩国的东进等，已有多年光刻胶工业化生产经验，在原物料的选用，生产工艺流程和产品质量的管控方面，已发展成熟，能得到稳定的产品质量，以保证FPD工厂的使用。

　　1 光刻胶材料的生产工艺和质量管控

　　光刻胶的功能参数要求和质量要求一直随电子产品工艺的变化和发展而提高，以适应发展的要求。金属离子含量的控制已从10年前的ppm级发展到ppb级，有些配套溶剂已控制在ppt级的水平。而微粒子的控制粒径也越来越小，从1.0um-0.5um-0.2um-0.1um发展，配套的无色溶剂已控制到更小数量级的粒子。

　　如我们在“光刻胶产品介绍”中所提到，由于光刻胶产品被运用于集成电路产业和平板显示器产业，以取得精细的电子线路。在光刻工艺中，光刻胶经过涂膜-烘干-曝光-显影-蚀刻-剥离这些工艺过程，对光刻胶的涂布均匀性、粘附性、耐热性、耐蚀刻性、膜厚和感度的稳定性、清洁度以及各质量特性对工艺条件的依存性都有要求，所以光刻胶有较高的质量要求。其生产工艺要求和质量管控也相应有其特点，通过光刻胶生产过程中各步骤的分步控制，得以保证光刻胶产品各生产批次间的性能稳定，易于进行工艺上的调整，以保证在客户端使用时，感光度、膜厚等性能特性在逐批使用时不需调整各大型设备的工艺参数仍能保证精细线路的稳定性。

　　在光刻胶的生产工艺中，需要注意以下几点：

　　（1）整个生产环境是恒温恒湿的洁净环境，且在黄光环境下进行生产，检测等工作。（2）生产所用的混合罐，加液管道等，一般采用优质不锈钢材料，有些还需加涂聚四氟乙烯材料，且在使用前用洁净溶剂清洗。（3）感光剂需预先与溶剂混合，经过充分搅拌，与溶剂成为均相液体，然后再与树脂混合。（4）为保证批次的稳定性，采用先分别调制生产高感度、低感度的半成品，再按照一定配比，混合得到所需感度的产品，然后加入溶剂稀释，得到符合动粘度规格的产品。（5）产品调整结束后（指达到感度和动粘度规格），采用合适的过滤方式，以保证产品的洁净度。

　　2 光刻胶生产的质量管控

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