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In2O3基透明导电薄膜的生长技术(2)

人气指数: 发布时间:2013-12-18 11:41  来源:http://www.zgqkk.com  作者: 徐莉
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  5溶胶一凝胶技术

  溶胶-凝胶技术制备薄膜的装置简单,成本低;易于有效控制薄膜的成分及结构;能在温和条件下制备出多种功能的薄膜材料;可以在各种不同形状、不同材料的基底上制备大面积薄膜。

  在全宝富[20]等人的实验中,掺杂4%和5%的Sn可使ITO薄膜导电性最好;电阻率随着退火温度的升高而降低,然而过高的温度会引起镀层的脱落。600~700℃退火1h有较低的电阻。马颖[21]等发现提高Sn的掺杂浓度可以提高透过率。用掺杂20%的Sn制备薄膜并进行退火,发现低于475℃的退火对透过率影响不大,超过该温度后的退火使得透过率迅速下降。在450℃下进行退火,开始方阻较大,随着退火时间加长迅速下降,到15min可达到最低,之后变化不大。退火时间较短时透过率较高;随着退火时间的加长,透过率降低;超过15min之后下降缓慢;30min之后基本不变。袁红梅[22]等证实随着掺Sn量的增加和退火温度的升高,薄膜的方阻迅速下降,在掺Sn量为15%、退火温度为450℃时,方阻最小,导电性最好。透过率随着掺Sn量增加而增大,超过10%后变化不大。退火时间对透过率的影响不大,平均80%。随着镀膜次数的增加,薄膜方阻呈非线性减小,大于五层后趋于稳定;透过率曲线向长波方向移动。

  6结语

  由于TCO应用领域扩大,需求量增加,铟的价格相对较贵,In2O3基薄膜不能完全满足日益增长的应用需求,人们继续努力寻找新的功能材料、更合适的制备参数,从而掀起ZnO基薄膜的研究热。

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